熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過(guò)程中基本上無(wú)碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
高純度薄膜：由于在高真空條件下進(jìn)行，減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞，從而能夠制備出高純度的薄膜。
精確控制：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對(duì)薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行精確控制，這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
適用多種材料：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料，包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
高沉積速率：特別是使用電子束蒸發(fā)時(shí)，由于高能量的電子束能夠快速加熱材料，可以實(shí)現(xiàn)高沉積速率。
均勻性：通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整，可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷：由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上，對(duì)基底的熱影響較小，適用于熱敏材料的薄膜沉積。
使用方法：
前期準(zhǔn)備：
清潔腔體內(nèi)部雜質(zhì)，關(guān)閉并鎖死腔門，檢查冷卻水、氮?dú)庀到y(tǒng)狀態(tài)正常。
清洗烘干基片，將待蒸鍍材料分別裝入對(duì)應(yīng)獨(dú)立蒸發(fā)源的坩堝中。
抽真空流程：
啟動(dòng)機(jī)械泵預(yù)抽，待腔體內(nèi)氣壓低于10Pa后，開啟分子泵抽高真空。
直至腔體真空度達(dá)到5×10??Pa及以上，滿足蒸鍍環(huán)境要求。
蒸鍍操作：
設(shè)置各蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率、目標(biāo)膜厚參數(shù)，開啟樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)功能。
對(duì)各蒸發(fā)源材料進(jìn)行預(yù)熔，用擋板擋住基片，待雜質(zhì)充分蒸出、真空度恢復(fù)后移開擋板。
獨(dú)立調(diào)控各源功率，通過(guò)膜厚監(jiān)測(cè)儀實(shí)時(shí)監(jiān)控沉積過(guò)程，保證各元素沉積比例符合目標(biāo)要求。
后期收尾：
達(dá)到設(shè)定總膜厚后，依次關(guān)閉各蒸發(fā)源電源，關(guān)閉擋板，待基片冷卻至室溫。
向腔體內(nèi)通入氮?dú)馄普婵眨〕鰳悠罚来侮P(guān)閉分子泵、機(jī)械泵，最后關(guān)閉總電源和氣源。
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